半导体行业动态：SUSS推出新一代光掩模清洗设备ASC9500

 半导体制造过程中，光掩模承担着电路图形转移的重要作用，其表面洁净程度直接关系到晶圆曝光工艺的质量。随着汽车电子、工业控制及功率半导体市场持续发展，成熟制程仍然保持着较大的制造需求。光掩模在生产过程中需要反复使用，微小颗粒、有机残留及其他污染物都可能影响图形转移效果，因此清洗设备成为光掩模制造环节的重要配套。

2026年11月9日，德国半导体设备企业SUSS MicroTec发布新一代光掩模清洗设备ASC9500 Mid-End Cleaner，进一步扩展其光掩模解决方案产品线。该设备面向成熟制程光掩模制造需求，根据不同配置，可支持38至90纳米技术节点。企业表示，已经识别到多个客户的相关需求，并启动该设备的生产。

光掩模清洗关系到图形制造质量

光掩模是半导体光刻工艺中的关键载体，上面制作有需要转移至晶圆表面的电路图形。在实际生产过程中，光掩模可能受到颗粒、有机物及工艺残留物污染。如果污染物未能及时清除，可能影响曝光图形质量，进而增加晶圆制造过程中的缺陷风险。

因此，光掩模清洗不仅需要去除表面污染，还需要控制清洗过程对掩模材料和精细图形的影响。清洗设备需要兼顾污染物去除能力、工艺重复性以及生产效率。

ASC9500引入原位无酸UV清洗技术

此次发布的ASC9500是在原有ASC5500平台基础上进行升级的新一代设备。其主要特点是采用可扩展架构，并整合此前部分高端清洗系统所具备的技术能力。

值得关注的是，该设备引入了无酸原位UV清洗技术。与依赖酸性化学品的部分传统清洗方式相比，这种方案旨在减少化学品消耗，并降低设备运行成本。

以上参数及产品特点依据SUSS于2026年11月9日发布的产品公告整理。

UV光源在光掩模清洗中的作用

ASC9500此次升级中值得关注的技术之一，就是原位UV清洗方案。紫外光在特定清洗工艺中能够参与污染物处理过程，减少对部分化学清洗介质的依赖。

需要注意的是，UV清洗并不等同于普通紫外照明。其应用效果与紫外光波长、输出功率、照射均匀性、作用时间以及污染物性质有关。设备制造商需要根据具体工艺设计光源及光学系统，确保清洗过程满足掩模质量要求。

对于半导体设备配套行业而言，这类设备也带来了专业紫外光源、光功率计、UV能量计、光学滤光组件以及光源控制系统等产品的应用机会。

成熟制程设备市场仍有升级空间

虽然先进制程持续受到关注，但成熟制程在汽车电子、工业半导体、功率器件等领域仍具有重要地位。随着相关产品需求和制造规模变化，光掩模生产企业也需要持续提升清洗效率、工艺稳定性及设备适配能力。

SUSS推出ASC9500，体现出半导体设备企业正在通过平台升级和清洗工艺优化，进一步覆盖成熟节点市场。对于光学仪器和专业光源供应链而言，光掩模清洗设备的更新也值得关注，特别是紫外光源及其检测配套产品，将在相关设备研发和维护中发挥作用。